టంగ్‌స్టన్ మూలకం ఆక్సిజన్, ఆమ్లాలు, క్షారాలతో చర్యలను నిరోధిస్తుంది. 
టంగ్‌స్టన్ అత్యంత సాధారణ ఆక్సీకరణ స్థితి +6, కానీ ఇది -2 నుండి +6 వరకు అన్ని ఆక్సీకరణ స్థితులను ప్రదర్శిస్తుంది. టంగ్‌స్టన్ కొన్ని ప్రత్యేక పరిస్థితులలో ఆక్సిజన్‌తో కలిసి పసుపురంగు గల టంగ్‌స్టన్‌ ఆక్సైడ్ WO ను ఏర్పరుస్తుంది. ఇది సజల క్షార ద్రావణాలలో కరిగి టంగ్‌స్టన్ అయాన్లు ను ఏర్పరుస్తుంది.
టంగ్‌స్టన్ చూర్ణంతో కార్బన్ కలసి వేడి చేయడం ద్వారా టంగ్‌స్టన్ కార్బైడ్లు (W C, WC) ఏర్పడతాయి. W C రసాయనాల దాడిని నిరోధిస్తుంది. ఆయినప్పటికీ ఇది క్లోరిన్ తో ఎక్కువగా చర్య జరిపి టంగ్‌స్టన్ హెక్సా క్లోరైడ్ (WCl ) ను ఏర్పరుస్తుంది.
జల ద్రావణంలో టంగ్‌స్టేట్ హెటెరోపాలీ అమ్లాలు, పాలీ ఆక్సీ మెటలేట్ అయాన్లను తటస్థ, ఆమ్ల పరిస్థితులలో ఏర్పరుస్తుంది.
రసాయన ధర్మములు
లభ్యత
ఆభరణాలు
మిశ్రమ పదార్థాలు